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7天直流射频型高真空磁控离子溅射镀膜机
简介
高真空磁控离子溅射镀膜机是材料科学和样品制备的理想选择。它广泛用于广大高校和科研院所的材料科学与工程镀膜，用于金属、陶瓷、半导体、绝缘体或其他各种膜材料的制备。
高真空磁控离子溅射镀膜机提供最稳定的溅射环境，在极短的时间内达到磁控溅射的基本实验条件。提供DC/RF两种溅射功率选择，可在试样上溅射导电或非导电物质，提高物理气相沉积（PVD）性能。它也非常适合表面处理和涂层。它易于操作，对用户极其友好。
镀膜仪包含有真空泵和冷却器。
参数
真空泵 | （泵油）旋转真空泵+（免油）涡轮分子泵组 |
旋转真空泵转速 | 50 Hz:16m³/h (4.4L/s)/60 Hz:19.2m³/h (5.2L/s) |
分子泵转速 | 300 L/s |
极限真空度 | 5x10-5Pa |
工作压力 | 0.5-5 Pa |
抽真空时间 | >10 Min(10-3Pa) |
真空测量 | 测量范围从大气压到 1*10-6Pa |
气体控制 | 气体流量控制阀 |
腔体尺寸 | φ260*200mm (高) 金属 |
磁控靶源 | 靶尺寸φ50*3mm(Cu)/溅射靶源: 弱磁性物质/材料 |
操作方法 | 操作手册 |
重量/尺寸 | 100kg/610mm长x420mm宽x490mm高 |
电源 | AC 110V 60Hz 或 AC 220V 50Hz |
电源功率 | <3000W |
冷却方式 | 风冷(泵)+水冷(溅射靶) |
质量保证 | 一年有限质量保证/保修/支持 |
IPv6 network supported
